Nb薄膜-上海赋同科技有限公司

     

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Nb薄膜2
薄膜化学和温度稳定性高且易于微纳加工,是超导器件和电路应用的主流材料。  膜厚150nm, 1*1 um2范围:Rq=0.96 nm

 

生长方法

   直流磁控溅射

衬底材料

     SiO2/Si(100)

薄膜厚度

2-500 nm: ±5%

薄膜厚度均一性

4 inch: ± 5% 

表面粗糙度

< 2 nm RMS @ < 200 nm

薄膜结构

多晶薄膜

超导转变温度

> 9 K @ 200 nm

薄膜剩余电阻率比(300K/20K)

RRR:> 4 @ 200 nm

常规尺寸

dia 4"×0.625 mm

注:可根据客户需求提供不同厚度的薄膜,特殊尺寸及方向的衬底。

Nb薄膜

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