NbN超导薄膜-上海赋同科技有限公司

NbN超导薄膜1

 

NbN薄膜具有高临界转变温度、高能隙及高上临界场等,在超导电子学领域一直是近几十年来的热点。

制备的高性能超薄超导 NbN 和 NbTiN 薄膜已经成功应用于高性能 SNSPD 器件的研制。在 1550 nm 波段的NbN-SNSPD,2.1 K 工作温度时系统探测效率超过 90%,达到了世界最佳水准;基于高性能高均匀性薄膜实现了小规 模产业化 SNSPD 器件的制备,多波段、不同特性高性能 SNSPD 器件在量子信息领域的成功应用也从应用角度证明了NbN/NbTiN 超导薄膜材料的优异性能。 

NbN超导薄膜2

 膜厚150nm, 1*1 um2范围:Rq=0.45nm

生长方法 

反应磁控溅射

衬底材料 

MgO(100)

SiO2/Si(100)

薄膜厚度 

2-500 nm: ±5%

薄膜厚度均一性 

4 inch: ± 5%  

薄膜结构 

外延薄膜,fcc,a=4.46 Å

多晶薄膜

表面粗糙度 

< 0.5 nm RMS

< 2 nm RMS

超导转变温度 

> 16 K @ 200 nm

> 15 K @ 200 nm

 

> 8 K @ 3 nm

> 6 K @ 7 nm

薄膜电阻率 

< 100 μΩ cm @ 200 nm

< 300 μΩ cm @ 200 nm

 

< 500 μΩ cm @ 3 nm

< 600 μΩ cm @ 7 nm

常规尺寸

5×5×0.4 mm-50×50×0.4 mm

dia 4"×0.625 mm

注:可根据客户需求提供不同厚度的薄膜,特殊尺寸及方向的衬底 。 

NbN超导薄膜

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